雙目正置明場顯微鏡符合人機工程學要求的理想設計

   雙目正置明場顯微鏡是針對電子信息產業、半導體工業、硅片制造業、冶金工業需求而研發的，作為金相顯微鏡用戶在使用時能體驗其*性能。

   雙目正置明場顯微鏡造型新穎、性能良好、使用方便可靠，可供工廠、高等院校、科研機構及電子工業部門作金相、礦相、晶體、微電子、半導體、fpd、電路封裝、電路基板、材料、鑄件、金屬等方面的試驗與分析研究之用。雙目正置明場顯微鏡采用了反射和透射兩種照明形式，并配有偏光裝置，在反射光照明下可進行明暗場和偏光觀察，又可在透射光照明下作明暗場觀察。本儀器可選配攝影裝置與顯微鏡相連接拍攝照片等。 

   雙目正置明場顯微鏡采用優良的無限遠光學系統與模塊化功能設計理念，可以方便升級系統，實現偏光觀察、暗場觀察等功能，緊湊穩定的高剛性主體，充分體現了顯微操作的防振要求。雙目正置明場顯微鏡適用于對不透明物體的顯微觀察。采用優良的無限遠光學系統與模塊化功能設計理念，可以方便升級系統，實現偏光觀察、暗場觀察等功能，緊湊穩定的高剛性主體，充分體現了顯微操作的防振要求。

   雙目正置明場顯微鏡符合人機工程學要求的理想設計，使操作更方便舒適，空間更廣闊，適用于金相組織及表面形態的顯微觀察，是金屬學、礦物學、精密工程學研究的理想儀器。雙目正置明場顯微鏡配置大視野目鏡和長距平場消色差物鏡(無蓋玻片)，視場大而清晰，大移動范圍的載物臺，移動范圍：8"×8"(204mm×204mm)，粗微動同軸調焦機構，粗動松緊可調，帶限位鎖緊裝置，三目鏡筒，可自由切換正常觀察/偏光觀察，明視場/暗視場觀察，可進行100%透光攝影。